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Veeco推出了Genxplor分子束外延系统

2013年8月19日

业界首款适用于复合半导体研发市场的全集成MBE系统

Plainview,N.Y .--(商业资讯) - 8月。19,2013-- Veeco Instruments Inc.(纳斯达克:Veco)今天介绍了Genxplor™分子束外延(MBE)沉积系统,该行业的第一个全集成的MBE系统,用于复合半导体研发市场。GenXPLOR在直径上产生高达3“的基质上的高质量外延层,是对包括GaAs,氮化物和氧化物的各种材料的尖端研究的理想选择。


Veeco的新Genxplor R&D MBE系统(照片:商业资讯)

“复合半导体研发社区要求更实惠,灵活,易于使用的MBE系统和Veeco与GenXplor提供,”Jim Northup,Veeco的副总裁兼总经理。“我们将Veeco的行业领先的MBE技术重新包装为一种新颖的”一体化“设计,将反应堆和电子产品在一个框架上结合起来。它将改变研究人员使用MBE的方式。“

GenXPLOR使用Veeco的经过验证的Gen10™增长室设计,并具有无与伦比的过程灵活性,适用于紫外线LED,高效太阳能电池等新兴技术的材料研究。其有效的单帧设计将所有真空硬件与板载电子设备相结合,使其比其他MBE系统小40%,节省了宝贵的实验室空间。由于手动系统集成在单帧上,因此降低了安装时间。GenXPLOR的开放式架构设计还提高了易用性,可方便地进入积液电池,并且与其他MBE系统相比,可以更轻松的可维护性。当加上Veeco最近引入的可伸缩源时,Genxplor系统代表了氧化物材料研究的最先进。

为了认识到中国在MBE研究领域的影响越来越大,Veeco正在上海本周推出了GenXplor。有关GenXPLOR的更多信息,请访问中国MBE会议或转到www.theljp.com/genxplor.

关于Veeco.

Veeco的过程设备解决方案使得LED,电力电子,硬盘驱动器,MEMS和无线芯片的制造。我们是MOCVD,MBE,离子梁等先进薄膜工艺技术的市场领导者。我们的高性能系统推动了能源效率,消费电子和网络存储的创新,并让我们的客户最大限度地提高了生产率并实现了更低的所有权成本。有关我们公司,产品和全球服务和支持的信息,请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com.

在此新闻发布讨论期望或以其他方面发表对未来的陈述的范围内,此类陈述是前瞻性的,受到许多风险和不确定性的影响,可能导致实际结果与所做的陈述有所不同。这些因素包括商业介绍和管理层讨论的风险,审查了Veeco于2011年12月31日止年度和截至2011年12月31日止年度的年度报告的讨论和分析部分,并在随后的季度报告上的表格10-Q,目前关于表格8的报告-k和新闻稿。Veeco不承担更新任何前瞻性陈述以在此类陈述之后反映未来事件或情况的任何义务。

照片/多媒体画廊:http://www.businesswire.com/multimedia/home/20130819005147/cn/

资料来源:Veeco Instruments Inc.

Veeco Instruments Inc.
金融的:
Debra Wasser,516-677-0200 x1472
SVP投资者关系和公司通讯
要么
媒体:
Fran Brennen,516-677-0200 x1222
马尔康高级总监

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类别: 新闻稿
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