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Fraunhofer IAF选择Gen200 MBE进行光电器件生产

2013年3月12日

Plainview,N.Y .--(商业资讯) - Mar。2013年12月12日 - Veeco Instruments Inc.(纳斯达克:Veco)今天宣布,德国弗莱堡的复合半导体研究领域的领先机构Fraunhofer Applation Solid Stations Iaf购买了一个Gen200®分子束外延系统。MBE系统将用于研究和开发各种锑和基于砷的III-V光电器件。

据弗劳恩霍夫勒IAF红外探测器业务部门博士,“我们一直在使用Veeco十多年来,并在我们的设施中与现有的Veeco MBE系统进行了非常好的体验。因此,我们决定有利于Veeco的全自动生产MBE系统,因为对基于锑苷酸的III-V光电子的外延层的需求增加了。“

Veeco的MBE运营总经理副总裁Jim Northup评论称,“这次新的购买扩展了我们与III-V领域的世界顶级研究设施之一与Fraunhofer IAF的长期合作关系扩展。我们的Gen200以其最低的成本4x4“Epiwafer生长而闻名,并且是支持Fraunhofer IAF在增长服务中扩张的理想工具。”

关于Gen200 MBE系统

GEN200是当今市场上最具成本效益和最高的最高电容的MBE系统。该系统可提供卓越的吞吐量,长度活动和优异的晶片质量,在泵浦激光器,VCSELS和HBTS等设备中,在生长的GAAS或基于INP的晶片中提供优异的晶片质量。有关更多信息,请访问www.theljp.com/gen200.

关于Fraunhofer IAF

Fraunhofer IAF基于复合半导体开发电气和光学器件。该研究所成立于1957年,是世界领先的III-V半导体领域的研究设施之一。Fraunhofer IAF在整个领域使用超过280人:从材料和设计分析到实现模块和系统。Fraunhofer IAF的技术用于各种应用领域,如安全,能源,通信,健康和移动性。该研究所在工业和研究中拥有大约170个合作伙伴。有关更多信息,请访问http://www.iaf.fraunhofer.de/en.html.

关于Veeco.

Veeco的过程设备解决方案使得LED,电力电子,硬盘驱动器,MEMS和无线芯片的制造。我们是MOCVD,MBE,离子梁等先进薄膜工艺技术的市场领导者。我们的高性能系统推动了能源效率,消费电子和网络存储的创新,并让我们的客户最大限度地提高了生产率并实现了更低的所有权成本。有关我们公司,产品和全球服务和支持的信息,请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com.

在此新闻发布讨论期望或以其他方面发表对未来的陈述的范围内,此类陈述是前瞻性的,受到许多风险和不确定性的影响,可能导致实际结果与所做的陈述有所不同。这些因素包括商业介绍和管理层讨论的风险,审查了Veeco于2011年12月31日止年度和截至2011年12月31日止年度的年度报告的讨论和分析部分,并在随后的季度报告上的表格10-Q,目前关于表格8的报告-k和新闻稿。Veeco不承担更新任何前瞻性陈述以在此类陈述之后反映未来事件或情况的任何义务。

资料来源:Veeco Instruments Inc.

Veeco Instruments Inc.
Debra Wasser,516-677-0200 x1472
SVP投资者关系和公司通讯
要么
媒体:
Fran Brennen,516-677-0200 x1222
马尔康高级总监

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类别: 新闻稿
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