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Veeco推出SPECTOR-HT离子束沉积系统

2012年4月16日
工业最高吞吐量系统的精密光学薄膜应用

2012年4月16日,纽约普PLAINVIEW (BUSINESS WIRE)——在比利时布鲁塞尔举行的SPIE光电欧洲贸易展上,Veeco仪器公司(纳斯达克代码:VECO)今天介绍了一款新的光电产品SPECTOR-HT(TM)离子束沉积(IBD)系统。用于光学市场的薄膜涂层,SPECTOR- ht与前几代SPECTOR相比,吞吐量提高了400%,目标利用率提高了300%,材料均匀性提高了50%。此外,新系统提供了卓越的薄膜质量,并为各种光学应用提供了一个低成本的制造平台,包括精密光学、激光、生命科学、生物医学设备和电信。

Veeco离子束设备执行副总裁Robert P. Oates评论道:“Veeco在全球安装了200多个系统,是光学行业公认的离子束沉积涂层行业领导者。与物理气相沉积(PVD)、蒸发涂层或离子辅助沉积等光学沉积技术相比,新的SPECTOR-HT系统具有无与伦比的吞吐量优势,是一个具有成本效益的平台。”

SPECTOR-HT是业内首个全自动离子束沉积系统,可实现与PVD相当的加速沉积速率,同时保持高质量、最佳的薄膜,以满足具有挑战性的生产要求。它提供了增加沉积速率的地段大小,高达两倍于前一代SPECTOR。

有关SPECTOR-HT的更多信息,请访问我们的SPIE展位#G323或访问www.theljp.com/spectorht

关于Veeco

Veeco生产开发和制造光电子、led、太阳能电池、硬盘驱动器和其他设备的设备。我们通过在美国、韩国、台湾、中国、新加坡、日本、欧洲等地的产品开发、制造、销售和服务站点为客户提供支持。欢迎访问我们的网站www.theljp.com

就本新闻稿讨论预期或以其他方式对未来作出的声明而言,这些声明是前瞻性的,并受到许多风险和不确定性的影响,这些风险和不确定性可能导致实际结果与所作的声明存在重大差异。这些因素包括Veeco截止到2011年12月31日的10-K年度报告中的业务描述和管理讨论和分析部分所讨论的风险,以及我们后续的10-Q季度报告、8-K的当前报告和新闻稿中所讨论的风险。Veeco不承担更新任何前瞻性陈述以反映该等陈述日期之后的未来事件或情况的任何义务。

照片/多媒体画廊可用:http://www.businesswire.com/cgi-bin/mmg.cgi?eid=50238530&lang=en

来源:Veeco Instruments Inc.。

Veeco仪器公司。
金融:
黛布拉·瓦瑟,516-677-0200,转1472
投资者关系和企业传播高级副总裁

媒体:
Fran Brennen, 516-677-0200,转1222
公关部高级主管

多媒体文件:

类别: 新闻稿
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