Plainview，N.Y .--（商业资讯） - SEP。13, 2012-- Veeco Instruments Inc. (NASDAQ: VECO) announced today that SEMATECH, a global semiconductor consortium that conducts research and development to advance chip manufacturing, has recently achieved a major breakthrough using Veeco’s NEXUS® Low Defect Density Ion Beam Deposition (LDD IBD) System to significantly reduce defects from multi-layer deposition of mask blanks used for extreme ultraviolet lithography (EUVL).
SEMATECH的面具空白缺陷减少计划经理Frank Goodwin表示，“EUVL需要低缺陷密度反射掩模空白，这被认为是技术商业化的主要技术差距之一。Veeco的世界级IBD技术是一项主要催化剂，帮助我们展示临界胶片沉积的低缺陷水平，并满足EUV掩模空白的22纳米缺陷要求。“
Vivek Vohra, Veeco’s Vice President and General Manager, Veeco Ion Beam Equipment, commented, “Veeco's NEXUS LDD IBD System has continuously demonstrated the ability to provide low defect density deposition and precise control, which are required to accelerate the development of mask blanks used for extreme ultraviolet EUV, bringing that technology a step closer to high-volume manufacturing. We congratulate the research team at SEMATECH for reaching this milestone and for achieving it on our production-proven system.”
离子束沉积工具用于制造EUV面罩。掩模上的纳米尺度图案投影到半导体晶片上以限定芯片。单个面具可用于在其寿命期间打印超过600万芯片，需要严格的掩模缺陷控制。先进的技术EUV面罩用于定义具有较小几何形状的芯片，这导致越来越多的移动设备所需的功率和性能。Veeco的IBD产品引发了高薄膜质量的行业，具有极低的微粒沉积和精确控制单层或多层工艺的光学性能，两个关键因素为生产先进的EUV光掩模。
关于Veeco.
Veeco的过程设备解决方案使得LED，电力电子，硬盘驱动器，MEMS和无线芯片的制造。我们是MOCVD，MBE，离子梁等先进薄膜工艺技术的市场领导者。我们的高性能系统推动了能源效率，消费电子和网络存储的创新，并让我们的客户最大限度地提高了生产率并实现了更低的所有权成本。有关我们公司，产品和全球服务和支持的信息，请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com.。
关于Sematech.
SEMATECH，领先的半导体器件，设备和材料制造商的国际联盟，今年庆祝25年的卓越，加快技术创新的商业化进入制造解决方案。通过我们坚定承诺促进纳入纳米电子行业的合作，我们帮助我们的会员和合作伙伴解决关键行业转型，推动技术共识，将研究拉到行业的主流，提高制造生产力，降低风险和时间到市场。有关Sematech的信息可以找到www.sematech.org.。
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资料来源：Veeco Instruments Inc.
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