纽约州Plainview--（商业资讯） - 2月。2012年6月6日 - Veeco Instruments Inc.（NASDAQ：VECO）今天宣布，总部位于台湾的Epistar Corporation最近选择了K465iTM值turbodisc®氮化岩（GAN）金属有机化学蒸气沉积（MOCVD）系统，用于在硅底物上生长的光发射二极管（LED）。
Epistar总裁M. J. Jou博士评论说：“我们很高兴选择Veeco的K465i作为我们的Si-Si开发工具。当我们转向更大的晶圆尺寸时，我们对Gan-On-Si技术的潜力感到兴奋。我们感谢Veeco的大力支持，并期待这一合作。”
William J. Miller, Ph.D., Veeco’s Executive Vice President, Process Equipment, commented, “We are very pleased that Epistar has chosen the K465i, which provides low cost-of-ownership and production worthiness, for its GaN-on-Si LED development. Large diameter Si wafers offer tremendous promise as a low cost alternative to sapphire for volume production of lower cost LEDs.”
有关K465i的更多信息，请访问Veeco//www.theljp.com/products/mocvd.aspx
关于Epistar Corporation
Epistar Corporation位于台湾的基于Hsinchu科学的工业园区，生产了紧凑型尺寸，低功耗和长期运营寿命的高亮度LED。它们被广泛用于传真机，扫描仪照明，汽车内部和外部照明，LCD背光，室外/室内显示器，交通信号，各种消费电子设备的指示器以及最终用于一般照明的照明源。Epistar成功地将高亮度LED的全光谱范围推广。http://www.epistar.com.tw/about-e.htm
关于Veeco
Veeco为开发和制造LED，太阳能电池，硬盘驱动器和其他设备制造设备。我们通过美国，韩国，台湾，中国，新加坡，日本，欧洲和其他地点的产品开发，制造，销售和服务网站来为客户提供支持。请在www.theljp.com。
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资料来源：Veeco Instruments Inc.
Veeco Instruments Inc.
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