普莱维尤，纽约，2010年10月13日(商业连线)——
Veeco仪器公司(纳斯达克代码:VECO)今天宣布，该公司已被全球领先的硬盘驱动器制造商选定，为下一代薄膜磁头提供更高的面积密度的关键技术。
数据存储执行副总裁Robert P. Oates评论道:“最近对我们的NEXUS(R) TAMR物理气相沉积(PVD)系统和NEXUS化学气相沉积(CVD)系统的订单，结合经过验证的8英寸晶圆能力，展示了Veeco作为合作伙伴持续的技术领先地位，使磁盘驱动器制造商能够增加存储容量。”“我们也在其他积极的技术项目上密切合作，如用于头部涂层的类金刚石碳沉积和硬偏置解决方案。这类技术对于将面积密度提高到1tb /in至关重要2和超越。”
NEXUS TAMR(热辅助磁记录)系统利用Veeco经过生产验证的高速率活性氧化铝平台和专有的过程控制。NEXUS CVD系统支持钌沉积，用于区域密度为>500Gb/in2的高级垂直磁记录(PMR)。
关于Veeco
Veeco生产开发和制造led、太阳能电池板、硬盘驱动器和其他设备的设备。我们通过在美国、韩国、台湾、中国、新加坡、日本、欧洲等地的产品开发、制造、销售和服务站点为客户提供支持。欢迎访问我们的网站www.theljp.com．
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来源:Veeco Instruments Inc.。
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