启用下一代数据存储应用
纽约州普莱维乌市，2010年6月16日(商业新闻)——Veeco仪器公司(纳斯达克代码:VECO)今天宣布推出NEXUS(R) TAMR物理气相沉积(PVD)系统，用于下一代热辅助磁记录(TAMR)，也称为热辅助磁记录(HAMR)。新系统和Veeco的专有工艺在读写头中沉积了一个关键的光学结构，用于传输TAMR中使用的热源。Veeco还宣布，一家全球硬盘驱动器制造商已经订购了该PVD系统，以支持该关键技术的部署。
Veeco数据存储业务执行副总裁Robert P. Oates评论道:“硬盘驱动器行业的发展路线图需要在面积密度方面不断进步，而TAMR被广泛认为是下一个关键技术，可以将密度提高到目前行业的50倍。Veeco正在与我们的主要客户合作，以使我们的新系统获得生产资格，目前我们预计，随着行业采用TAMR，我们将收到来自多个客户的额外工具订单。”
Veeco NEXUS TAMR PVD系统沉积关键的低损耗薄膜，制成激光的光波导。它的特点是氧化膜在“介电”和“金属模式”操作下的加热沉积能力。这些创新使五氧化钽(Ta2O5和氧化铝(Al2O3.）电影。Veeco TAMR PVD系统利用Veeco经过生产验证的高速率活性氧化铝平台和专有的过程控制。
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