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Veeco发布了两个新的突破AFM扫描模式

2009年12月01日

革命性的进展易于使用和定量分析

Plainview,N.Y .--(商业资讯) - DEC。2009年1,2009-- Veeco Instruments Inc.(纳斯达克:Veco),原子力显微镜(AFM)仪表的领先供应商,研究和工业社区,今天宣布推出了两种专利待决AFM扫描模式,Scanasyst™Peakforce™QNM™。这些专有的进步在一起为AFM定量分析和易用性提供了独特的新功能,在Veeco的Dimension®IB®,Bioscope™Catalyst™和新宣布的情况下Multimode®8.扫描探针显微镜。Veeco在马斯顿的MRS秋季会议上展示了Scanasyst和Peakforce QNM,Ma,12月1日英石到4.

“我们的新扫描器和Peakforce QNM定量纳米力学性质映射模式使纳米级AFM成像和分析更快,更容易,更多的量化,”Veeco的AFM业务副总裁David Rossi评论道。“使AFMS更轻松,量化地开启了重要的进展,以纳米级相互作用和过程的重要研究进入重要的研究,其中纳米级相互作用和过程是突破性发现的关键,但研究人员受到昨天的AFM技术的能力的限制。”

  • 帕萨西斯特是世界上第一个AFM图像优化扫描模式,提供了新的易用性,以获取可靠,高质量的纳米级数据。使用智能算法连续监控图像质量并进行适当的参数调整,这种革命性的专利申请扫描模式可自动提供更快,更一致的结果,以及无论操作员技能水平如何。扫描器大大改善了图像设置,通过对参数的自动优化,理想的是,广泛的材料和生命科学应用,在空气和流体中的操作。
  • peakforce qnm.是一个完全新的Veeco开发的操作模式,采用专利挂起的PeakForce攻丝技术,以在图像中的每个单个像素上记录非常快的力响应曲线。该成像模式使得模量和粘附性的前所未有的定量纳米机械性质映射在各种材料上,同时在高分辨率下同时成像样品形貌。除了更准确和可重复的结果外,扫描期间探头尖端的直接,超低力控制有助于保护细腻的提示和样品,产生更长的探针寿命,更少的探针交换,以及改善的样品完整性和测量一致性。

关于Veeco.

Veeco Instruments Inc.为HB-LED,太阳能,数据存储,半导体,科学研究和工业市场的客户提供支持解决方案。vwin官方网站我们在我们的三个业务中拥有领先的技术职位:LED和太阳能处理设备,数据存储过程设备和计量仪器。Veeco的制造和工程设施位于纽约,新泽西州,加利福尼亚州,科罗拉多州,亚利桑那州,明尼苏达州和马萨诸塞州。全球销售和服务办公室位于美国,欧洲,日本和APAC。有关更多信息,请访问www.theljp.com.

在此新闻发布讨论期望或以其他方面发表对未来的陈述的范围内,此类陈述是前瞻性的,受到许多风险和不确定性的影响,可能导致实际结果与所做的陈述有所不同。这些因素包括在2008年12月31日止年度和截至2008年12月31日止年度的审议和分析和分析部分,并在我们随后的季度报告的情况下,关于10-Q的季度报告,表格8的季度报告中讨论的风险-k和新闻稿。Veeco不承担更新任何前瞻性陈述以在此类陈述之后反映未来事件或情况的任何义务。

资料来源:Veeco Instruments Inc.

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类别: 新闻稿
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