使薄膜磁头面积密度大于400GB / In2
Plainview，N.Y .--（商业资讯） - 五月。2009年18日 - Veeco Instruments Inc.（纳斯达克：Veco），今天宣布推出了Nexus®CVD系统，该系统的第一个生产经过验证的化学气相沉积（CVD）系统，用于要求苛刻的种子层应用。Nexus CVD系统使得能够制造下一代垂直磁记录（PMR）薄膜磁头（TFMH），具有大于400 GB / IN的面密度2。
Robert P. Oates，执行副总裁，评论，“以回应市场对共形金属沉积过程来实现新一代PMR头，Veeco与领先的薄膜头制造商合作开发Nexus CVD系统。由于这种成功的合作，目前在领先的硬盘驱动器制造商处于TFMH生产中使用多个Veeco Nexus CVD系统，我们现在正式向更广泛的市场启动。此外，Veeco很高兴地宣布，第二个硬盘制造商已经为Nexus CVD系统订购了订单。“
营销副总裁James T. Jenson补充道，“Nexus CVD工具是Veeco与我们的数据存储客户的技术路线图的一个伟大示例，因为它们投入增加的面密度和较低的所有权解决方案成本。”作为Veeco的Nexus系列的一部分，Nexus CVD系统可以集成在具有互补Veeco技术的公共硬件和软件平台上，例如离子束蚀刻，离子束沉积和物理气相沉积。
关于Veeco.
Veeco Instruments Inc.为HB-LED，太阳能，数据存储，半导体，科学研究和工业市场的客户提供支持解决方案。vwin官方网站我们在我们的三个业务中拥有领先的技术职位：LED和太阳能处理设备，数据存储过程设备和计量仪器。Veeco的制造和工程设施位于纽约，新泽西州，加利福尼亚州，科罗拉多州，亚利桑那州，马萨诸塞州和明尼苏达州。全球销售和服务办公室位于美国，欧洲，日本和APAC。//www.theljp.com/
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资料来源：Veeco Instruments Inc.
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