2008年10月7日的纽约州Plainview- veeco instruments inc.在高级32nm和22nm的光掩模。Insight 3DAFM-PM包含许多硬件和软件增强功能，为各种光掩模特征和材料类型提供高吞吐量和亚纳米测量不确定性。除半导体应用外，Insight 3DAFM-PM还旨在满足硬盘驱动器行业的挑战性计量要求，因为它在新的图案化媒体技术中纳入了纳米印记掩模。
Mark R. Munch，Ph.D.，veeco Metrology行政副总裁评论，“Insight 3DAFM-PM工具只能为高级掩模提供非破坏性的三维型材计量和基于生产的深度计量的能力。该系统还实现了有关所有权成本的显着提高，并提高了吞吐量和显着减少CD计量测量的成本。“
“Insight 3DAFM-PM已经在高级22nm节点纳米印记掩码上展示了能力，并且在其对此技术上进行准确配置文件的能力是独一无二的，”Veeco副总裁Paul Clayton，Veeco的自动化AFM业务。“此外，该平台可以通过完整的概况表征抗蚀剂和MOSI结构以及Chrome和其他掩模材料来改进过程开发时间。”
关于Insight 3DAFM-PM
Insight 3DAFM-PM具有创新的计量平台，旨在满足32和22nm先进的光掩模和纳米印记测量应用的严格要求，例如CD，侧壁角度和关键层上的线宽粗糙度。该系统包含一种新的高精度X-Y级，具有提高的精度和具有高精度激光自动聚焦能力的独特模式识别系统。此外，新的
AFM控制技术和专有探头设计使得能够改善精度，每个测量部位成本更低，并且特征测量较小。最后，系统可靠性显着提高，以满足32和22nm的基于生产的计量的需求。有关Insight 3DAFM-PM的进一步信息可以找到www.theljp.com/insight3dafm.。
关于Veeco.
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