“随着GenXPLOR的发展，Veeco已成为创新的MBE研发技术的公认领导者，”Lu教授说。“GenXPLOR系统的开放式建筑设计和卓越技术是南京大学固态微观结构和工程学院的国家实验室研究设施。我们很自豪地在中国收到第一个系统。“
GenXPLOR系统在直径上的基板上沉积高质量的外延层，用于各种各样的应用，例如显影高速晶体管，用于材料处理的光纤激光器和无线技术。其高效的单帧设计将所有真空硬件与板载电子设备相结合，使其比其他MBE系统小至多百分点，节省了宝贵的实验室空间。
“自介绍以来，GenXPLOR在世界各地的顶级大学和机构中启用了基本的半导体研究，”Veeco MBE业务副总裁Gerry Blumenstock说。“南京大学的认可与卢博士牢牢地加强了行业领先的研发系统系统。在2013年中国MBE会议上启动系统后，我们很兴奋，南京大学是一家领先的材料科学和精炼物理研究大学，是第一个在中国安装GenXplor的客户。“
关于Veeco.
Veeco的过程设备解决方案使得LED，显示器，电力电子设备，复合半导体，硬盘驱动器，半导体，MEMS和无线芯片制造。我们是MOCVD，MBE，离子束，湿蚀刻单晶片加工等先进薄膜工艺技术的领导者。我们的高性能系统推动了能源效率，消费电子和网络存储的创新，并让我们的客户最大限度地提高了生产率并实现了更低的所有权成本。有关我们公司，产品和全球服务和支持的信息，请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com。
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