VEECO引入GenXplor分子束外延系统

Veeco Instruments Inc.(NASDAQ:VECO)今天推出了GenXPlor™分子束外延(MBE)沉积系统,这是该行业第一个用于复合半导体R&D市场的全面MBE系统。

VEECO引入GenXplor分子束外延系统

产品新闻|2013年8月19日

行业第一个用于复合半导体研发市场的完全集成的MBE系统

纽约州普莱恩维尤(Plainview) - (商业资讯) - aug。19,2013 - Veeco Instruments Inc.(NASDAQ:VECO)今天介绍了GenXplor™分子束外延(MBE)沉积系统该行业是复合半导体研发市场的第一个完全集成的MBE系统。GenXPlor在直径3英寸的底物上创建高质量的外延层,非常适合对包括GAAS,氮化物和氧化物在内的各种材料进行最先进的研究。


Veeco的新型GenXplor R&D MBE系统(照片:商业电讯)

Veeco副总裁兼总经理Jim Northup评论说:“复合半导体研发社区要求建立一个更实惠,灵活,易于使用的MBE系统,Veeco与GenXplor交付。”“我们将Veeco的行业领先的MBE技术重新包装成一种新颖的'多合一'设计,将反应堆和电子设备在单一框架上结合在一起。它将改变研究人员使用MBE的方式。”

GenXPlor使用Veeco的Proven Gen10™生长室设计,并具有无与伦比的工艺柔韧性,非常适合材料研究,例如紫外线LED,高效太阳能电池和高温超导体。其高效的单帧设计将所有真空硬件与车载电子设备结合在一起,比其他MBE系统小40%,从而节省了宝贵的实验室空间。由于手动系统集成在单个帧上,因此安装时间缩短。GenXplor的开放架构设计还提高了易用性,为积液细胞提供了方便的访问,并且与其他MBE系统相比,可更轻松的可用性。当加上Veeco最近引入的可伸缩源时,GenXPlor系统代表了氧化物材料研究中最新的。

为了认识到中国在MBE研究领域的影响力和重要性的日益增长的影响力,Veeco在本周在上海举行的中国MBE会议上启动了GenXplor。有关GenXplor的更多信息,请在中国MBE会议上访问我们或去www.theljp.com/genxplor

关于Veeco

Veeco的工艺设备解决方案可以生产LED,电力电子,硬盘驱动器,MEMS和无线芯片。我们是MOCVD,MBE,离子光束和其他先进的薄膜过程技术的市场领导者。我们的高性能系统推动了能源效率,消费电子和网络存储方面的创新,使我们的客户能够最大程度地提高生产率并实现较低的所有权。有关我们公司,产品和全球服务和支持的信息,请访vw德赢手机客户端问www.theljp.com

在本新闻发布讨论期望或以其他方式发表有关未来的陈述的范围内,此类陈述是前瞻性的,并且会受到许多风险和不确定性的影响,这些风险可能导致实际结果与所做的陈述实质性差异。These factors include the risks discussed in the Business Description and Management’s Discussion and Analysis sections of Veeco’s Annual Report on Form 10-K for the year ended December 31, 2011 and in our subsequent quarterly reports on Form 10-Q, current reports on Form 8-K and press releases. Veeco does not undertake any obligation to update any forward-looking statements to reflect future events or circumstances after the date of such statements.

照片/多媒体画廊可用:http://www.businesswire.com/multimedia/home/20130819005147/en/

资料来源:Veeco Instruments Inc.

Veeco Instruments Inc.
金融的:
黛布拉·瓦瑟(Debra Wasser),516-677-0200 x1472
高级副总裁投资者关系与企业传播
或者
媒体:
Fran Brennen,516-677-0200 X1222
高级主任Marcom

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