Veeco技术领导到2019年ALD / ALE会议

BELLEVUE, Wash., July 18, 2019—Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO) announced that the company’s technologists have been selected to present three papers and posters at this year’s International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2019), held in Bellevue, Washington from July 21-24, 2019.

Veeco技术领导到2019年ALD / ALE会议

新闻|2019年7月18日

BELLEVUE, Wash., July 18, 2019—Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO) announced that the company’s technologists have been selected to present three papers and posters at this year’s International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2019), held in Bellevue, Washington from July 21-24, 2019. The 19th iteration of the conference, which coincides with the sixth annual International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2019), is dedicated to the science and technology of atomic layer controlled deposition of thin films and new topics related to atomic layer etching. Veeco’s industry experts will present on a wide range of topics:

会议标题:用于保护历史性银色工件的银色的多层保护涂层(AA1-TUA06)

发言者:与大都会艺术博物馆,RIJKEK Museum和J.a合作提供的高级研究科学家Ritwik Bhatia。WOollam.

详情:7月23日星期二,2:45-3下午3点PT;大宴会厅e-g

会议标题:4H-SIC电源装置应用的高性能ALD栅极电介质(AA2-TUP08)

演讲者:与北卡罗来纳州立大学合作提出的应用技术副总裁Ganesh Sundaram

细节:7月23日星期二,5:30-7:30下午5:30-7:PT;常绿舞厅和门厅

会议标题:血浆增强原子层沉积氏族的摩擦学性质(AA5-Tup04)

演讲者:与美国海军研究实验室和Lehigh大学合作,标记SOWA,血浆增强型ALD研发科学家

细节:7月23日星期二,5:30-7:30下午5:30-7:PT;常绿舞厅和门厅

Veeco将在展位301-303上展出代表可用于回答有关最新创新ALD,可变流动技术等的问题。

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