着名的德国研究组织选择Veeco的原子层沉积系统来推动可再生能源创新

Veeco Instruments Inc.今天宣布德国Walter Schottky Institute(WSI)的夏普群体已携带Veeco的Fiji®F200™等离子体增强的原子层沉积(PE-ALD)系统。

着名的德国研究组织选择Veeco的原子层沉积系统来推动可再生能源创新

新闻|2019年3月14日

沃尔特肖特基研究所的夏普集团采用Veeco的Fiji F200 ALD系统,用于推进功能半导体和催化剂

Plainview,New York - Veeco Instruments Inc.今天宣布德国的夏普群体沃尔特肖特基研究所(WSI)已送达Veeco的斐济®F200™等离子体增强原子层沉积(PE-ALD)系统。作为功​​能半导体和催化剂的制造和表征的领导者,夏普集团将利用斐济系统将其作为其发现和材料开发工作的一部分,可再生能源保守应用。

“可再生能源解决方案的发展呼叫越来越复杂的薄膜和纳米结构,并推进我们在该领域的工作需要一种适用于各种沉积技术的方法,”Ian Sharp,Ph.D.,Ph.D。在WSI的夏普群体。“Veeco不仅具有必要的技术专长,而且还提供了宝贵的科学支持。随着斐济ALD系统购买,我们已经获得了宝贵和持久的伙伴关系。“

Fiji System是一种灵活的单晶片ALD电抗器,旨在为热和等离子体增强的ALD工艺提供最佳性能。它证明了精确控制组成,多组分材料的结构和相位的能力对于夏普基团是至关重要的,以加速能量转换机制和直接功能性质。Veeco安装了超过550个ALD系统,超过任何其他研发供应商,在全球领先的大学和客户设施。由Veeco的全球服务团队支持,该公司的Ald Portfolio包括斐济,vw德赢手机客户端萨凡纳®凤凰®和火鸟™系统支持全系列研发和生产应用。

“New materials engineering challenges and applications arise every day, making Veeco’s ALD platforms ideal for those seeking the most versatile plasma-enhanced systems and thermal tools available,” added Ganesh Sundaram, Ph.D., vice president of applied technology for Veeco’s ALD group. “We anticipate an extremely productive collaboration with Professor Sharp and his team at WSI as they develop new technologies for sustainability and energy innovation.”

Veeco将在EFDS展出和呈现ALD为行业2019年3月19日至20日在柏林,德国。Ganesh Sundaram博士的研讨会演示文稿“ALD用于装饰申请”,计划于2019年3月20日星期三11:10 CET。

关于Veeco.

Veeco(纳斯达克:Veco)是一家创新半导体工艺设备的领先制造商。我们经过验证的MOCVD,光刻,激光退火,离子束和单晶片蚀刻和清洁技术在生产用于固态照明和显示器的LED方面以及高级半导体器件的制造中起作用的积分作用。凭借旨在最大限度地提高业绩,产量和所有权成本的设备,Veeco在所有这些送达市场中占据了技术领导职位。vwin官方网站了解有关Veeco的创新设备和服务,请访问www.theljp.com.

媒体联系方式:大卫派托|+ 1-408-325-6157 |dpinto@veeco.com.

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